曝光方法专利保证了对位精度且不影响效率凯发k8登录锡凡科技申请双台面曝光机及

　　专利摘要显示☆▷•○，本发明涉及一种双台面曝光机及曝光方法▼=◇-，包括基座▽◇、左运动平台•☆▷•、右运动平台★▲▪▷•□、对位系统和曝光系统凯发k8官网登录○★，左运动平台包括第一Y轴组件□■=、第一Z轴组件和第一吸盘组件○△★◁，第一吸盘组件上设置有第一夹板组件和第一感光标尺■▪★，右运动平台具有第二Y轴组件凯发k8官网登录○=、第二Z轴组件和第二吸盘组件☆…▽凯发k8登录锡凡科技申请双台面曝光机及，第二吸盘组件上设置有第二夹板组件和第二感光标尺■○•-，还包括☆☆-：数据处理系统凯发k8官网登录▲…▷◆，其包括计算平台◁●■□•，用于计算第一感光标尺和第二感光标尺的曝光数据与初始数据间的误差得到补偿数据◁-★▼★■，且在每次曝光之前对位系统和曝光系统进行位置补偿□★曝光方法专利保证了对位精度且不影响效率。本发明在每次曝光之前对位系统和曝光系统进行位置补偿▪◆•▪▲☆，保证了对位的精度◆◆▼●•☆，且不影响曝光效率○☆▪…△▽。

　　公开号 CN 119024647 A凯发k8官网登录○•，申请日期为 2024年3月•○●。锡凡科技（滁州）有限公司申请一项名为□▷○☆“种双台面曝光机及曝光方法★▷”的专利▪▼★，国家知识产权局信息显示▲▽○●▷，金融界2024年11月27日消息▲•○◆★，